ما موفق شده بودیم نانو اکسید روی با خلوص 98% را طی فرآیندی تک مرحله ای در دو مقیاس آزمایشگاهی و صنعتی تولید کنیم. اما خلوص محصول ما برای برخی از صنایع کافی نبوده و نیاز به نانو اکسید روی با خلوص 99/5% و بالاتر مطرح گردید. بنابراین دست به کار شدیم….

افزایش خلوص به کمک فرآیند کلسیانسیون

اساس روش کلسیناسیون بر حذف ناخالصی های موجود در نانو ذرات تولید شده طی فرآیند اولیه تولید می باشد. در این روش نانو ذرات تولید شده درون کوره تحت دمای مشخص و مدت زمان نگهداری مشخص قرار داده می شوند تا ناخالصی ها حذف شده و خلوص نانو ذرات افزایش یابد. برای دستیابی به نانو ذرات اکسید روی خلوص بالا آزمایشات متعددی انجام دادیم تا دما و مدت زمان نگهداری بهینه بدست آیند. نمونه های مختلف تحت آنالیز XRF قرار گرفتند و نتایج بدست آمده نشان دادند که در نمونه بهینه خلوص نانو اکسید روی از 98% به 99/5% افزایش یافته است. آزمایشات تکمیلی نیز انجام شدند تا تکرار پذیری فرآیند کلسیناسیون بررسی شود که یکسان بودن نتایج تکرار پذیر بودن این فرآیند را نیز تایید کردند. نتایج آزمایشات PSA و BET نشان دادند که علی رغم افزایش خلوص محصول، اندازه ذره نانو اکسید روی از 40 نانومتر به 55 نانومتر افزایش یافته و سطح ویژه آن از m²/gr 17 به m²/gr 9 کاهش یافته است که این موضوع ناشی از رشد و آگلومره شدن ذرات در اثر دمادهی آنها می باشد.