HPZO

نانو اکسید روی خلوص بالا گزینه‌ای مطلوب برای صنایع پزشکی و آرایشی و بهداشتی

نانو اکسید روی خلوص بالا با هدف استفاده در صنعت آرایشی و بهداشتی و صنعت پزشکی تولید شده است. حساسیت بالای این صنایع موجب شده تا مواد اولیه مصرفی آنها نیازمند برخورداری از خلوص بالا (بالاتر از 5/99%) و حداقل غلظت فلزات سنگین نظیر جیوه (Hg)، سرب (Pb)، کادمیم (Cd)، آرسنیک (As) باشند. با توجه به اهمیت این موضوع، به این نتیجه رسیدیم که برای ورود به این صنایع باید نانو اکسید روی تولیدی خود را مطابق با استاندارد های این صنایع تقویت کنیم. با کمک واحد تحقیق و توسعه شرکت موفق شدیم فرآیند تولید نانو اکسید روی را جهت دستیابی به خلوص بالا در مقیاس صنعتی بهینه سازی کنیم به گونه ای که تولید آن تکرار پذیر باشد. نتیجه این کار دستیابی به محصولی جدید با نام تجاری “نانو اکسید روی خلوص بالا” با کد “HPZO” است. این محصول علاوه بر برخورداری از خلوص بالا دارای حداقل مقدار فلزات سنگین بوده و استاندارد لازم برای کاربرد در صنایع ذکر شده را دارا می باشد.

خواص نوری (آنتی یو وی) و ضد میکروبی نانو اکسید روی دو ویژگی مهم دیگر این نانو ماده می باشند که برای صنایع پزشکی و آرایشی بهداشتی حائز اهمیت اند. از آنجاییکه این دو ویژگی تحت تاثیر اندازه ذره و سطح ویژه نانو ذرات هستند، بنابراین لازم است فرآیند تولید به گونه ای بهینه سازی شود که امکان افزایش خلوص بدون ایجاد تغییر در سایر خواص فیزیکوشیمیایی نانو اکسید روی (اندازه ذره، چگالی، سطح ویژه و…) فراهم گردد. نانو اکسید روی خلوص بالا تولید شده در آرمان نانو فناور رابین علاوه بر برخورداری از خلوص بالا و حداقل مقدار فلزات سنگین، دارای رفتار ضد میکروبی قوی و قابلیت بالای جذب امواج فرابنفش (Anti UV) می باشد. مجموعه ویژگی های ذکر شده برای این محصول، نانو اکسید روی خلوص بالا را به گزینه ای مطلوب برای صنایع پزشکی و آرایشی و بهداشتی تبدیل می کند.

کد محصول: HPZO

ترکیب شیمیایی: ZnO

خلوص: 99.8%

اندازه ذره: nm40- 30

چگالی: gr/cm3 36/0

پایداری حرارتی: Cͦ1100

دارای حداقل مقدار عناصر سرب، نیکل، جیوه، آرسنیک و کادمیم

دارای قابلیت قوی در جذب امواج فرابنفش

دارای رفتار آنتی باکتریال قوی در برابر باکتری های گرم مثبت و باکتری های گرم منفی با حداقل مقدار مصرف 1/0 درصد وزنی