مطالعه مقالات علمی و جمع بندی نتایج آنها نشان داد که دو راه برای افزایش خلوص نانو ذرات اکسید روی وجود دارد: ۱. افزایش خلوص به کمک فرآیند ثانویه کلسیناسیون (Calcination) ۲. افزایش خلوص بصورت In Situ (درون فرایندی) و تک مرحله ای بدون استفاده از فرآیند ثانویه. با توجه به اطلاعات به دست آمده هر دو روش را در واحد تحقیق و توسعه آزمایش و بررسی کردیم.

اساس این روش بر ایجاد شرایط لازم برای افزایش خلوص محصول نهایی در بطن فرآیند تولید می باشد بطوریکه محصول نهایی با خلوص بالا بصورت تک مرحله ای تولید می گردد. در این روش نیازی به استفاده از فرآیند ثانویه (کلیسناسیون) نمی باشد. خالص سازی بصورت درون فرآیندی نیازمند تغییر فرمولاسیون، ایجاد واکنش های ثانویه و بکارگیری مواد اولیه جدید می باشد بطوریکه سایر خواص فیزیکوشیمیایی محصول تغییر نکند. با توجه به این موضوع، در فرمولاسیون تولید نانو اکسید روی تغییرات لازم را ایجاد کرده و با اضافه کردن مواد اولیه جدید و فعال کردن واکنش های ثانویه آزمایشات متعددی را انجام دادیم. آزمایشات صورت گرفته کمک کردند تا شرایط بهینه برای دستیابی به نانو اکسید روی خلوص بالا فراهم گردد. نتایج آنالیز های XRF نشان دادند که پس از چندین آزمایش مختلف موفق شده ایم خلوص نانو ذرات را طی فرآیندی تک مرحله ای و در مقیاس آزمایشگاهی از 98% به 9/99 % افزایش دهیم. روش درون فرآیندی هیچ یک از معایب روش کلسیناسیون را دارا نبوده اما تنظیم شرایط سنتز برایمان چالش بر انگیز بود. اگر بتوانیم شرایط سنتز را در مقیاس صنعتی کنترل کرده و ثابت کنیم، در اینصورت روش درون فرآیندی بهترین و کم هزینه ترین راه حل برای افزایش خلوص نانو ذرات اکسید روی خواهد بود.